我觉得不管做什么事情都有一个定律，那就是人们永远只会记得第一不会记得第二。

就像提到国内芯片设计，很多人都会想到华为海思，但你要说第2名叫什么名字，绝大多数人都说不起来；

再比如说芯片制造，很多人都能都知道中芯国际的名字，但要说国内第2家芯片代工厂的名字叫什么，大多数人也不知道。

所以要说芯片的机会在哪里，我觉得芯片的机会在顶端，这种顶端不仅仅指的是芯片制造的顶端，还包括整个产业链当中各个环节的顶端。

首先大概要弄清一个道理，目前我国的芯片制造产业是非常庞大的，从2021年我国集成电路的产业规模来看，一年生产的集成电路个数就达到3,000亿以上，目前我国集成电路产能占全球产能的比重已经达到30%左右，这个规模可不小。

这说明目前国内的半导体产业竞争其实也非常激烈。

但是目前国内的半导体主要集中在中低端产业，不论是芯片设计，芯片代工，都主要集中在中低端，高端芯片仍然严重依赖进口，如果国内有哪些企业解决了高端芯片的问题，他就可以拥有更多的市场机会。

这里所谓的高端芯片，我们主要指的是14纳米以上的工艺，尤其是7纳米以上的工艺。

想要实现这个技术瓶颈的突破，不仅需要某个企业的努力，更需要整个产业链的努力，从前端的光刻机到中间的芯片代工，再到后端的芯片封装测试都需要有顶尖的企业相互配合，才有可能实现技术上的突破。

高端芯片永远是市场最大的机会，就看谁有能力去占领。

就拿光刻机来说，目前国内研发光刻机的企业并不多，能生产高端光刻机的更是没有一个。

目前国内光刻机制造工艺最高的是上海微电子，但上海微电子目前真正已经投入量产的光刻机也只不过是90纳米，虽然他们已经研发出了28纳米的光刻机，但目前还在实验阶段，并没有完全量产。

而目前国际最顶尖的光刻机制造厂家ASML已经拥有成熟的7纳米光刻机技术，5纳米光刻机技术也正在实验当中。

目前一些顶尖芯片代工厂，比如台积电，三星，英特尔所使用的都是ASML的EUV光刻机，只有这个光刻机才能制造出7纳米以上的工艺。

假如未来国内有某个企业能够研发出7纳米以上的光刻机，甚至更先进的光刻机，那他绝对能够获得很大的市场份额。

要知道目前我国7纳米以上的芯片基本上全部依赖从外部进口，但是从外部进口存在很多不确定性，万一被外部限制了，就随时可能中断。

对这种依赖度，其实很多企业也知道其中简单的风险，但无奈国内没有企业能够生产出这么高端的芯片，所以他们只能依赖进口。

当然除了光刻机这种大型设备之外，芯片制造设计的产业链非常长，这里面需要用到很多零部件，一个高端光刻机需要用到的零部件就达到几万个，这里面每一个零部件都需要做到行业顶尖水平，这些关联零部件同样也存在巨大的市场空间。

当然除了硬件上的机会之外，软件上也同样有很多机会，比如目前国内用于芯片设计，很多软件都严重依赖欧美国家。

比如目前很多芯片设计企业所使用的EDA软件就主要从英美国家进口，而最近几年欧美国家一直在威胁我们要禁止出口EDA软件，我觉得这绝对不是简单的恐吓，未来确实有可能付诸行动，假如某一天他们真的禁止了，那国内很多芯片设计企业都会受到很大的影响。

虽然目前国内也有一些企业能够提供EDA软件，但跟国际顶尖水平相比，仍然有一定的差距。

在比如芯片框架也是一个让人头疼的地方，目前全球很多芯片设计都采用ARM的框架，如果他们真的禁止相关企业使用了，对我国半导体产业来说也会有很大的影响。

所以除了在高端芯片制造产业链上有很多机会之外，芯片设计的基础软件同样也有很大的机会。

总之，在技术不断推陈出新的背景之下，想要长久保持市场优势，获得更大的市场机会，那就需要不断进行技术突破，只有你掌握最顶尖的技术，让竞争对手望尘莫及，你才能拥有更多的市场空间。

来源： 为你弹奏夜曲